- 플라즈마 전자공학 연구실 졸업생 Graduates (2005 ~ Present)

 

Name/ Affiliation

Date

 

E-mail

Dissertation

김 주 호 (박사)

 

박사 후 과정

2020.2

   selectrickjh@gmail.com

 A study on high efficiency plasma generation in inductively coupled plasmas with a resonant antenna coil

문 준 현 (박사)

 

삼성전자 반도체

2020.2

   cmdoor@hanyang.ac.kr

 Studies on E - H mode transition and its hysteresis with coil current reduction in inductively coupled plasmas

박 지 환 (박사)

 

SK 하이닉스

2019.2

   starc86@gmail.com

 Frequency-domain nonlinear acoustic echo reduction techniques using single-channel and multi-channel microphones

박 일 서 (박사)

 

삼성전자 반도체

2019.2

   ilseo876@naver.com

  Analysis of characteristics of inductively coupled plasmas using two-dimensional simultaneous plasma diagnostics

이 내 일 (박사)

 

연구교수

2019.2

  

강 현 주 (박사)

 

삼성전자 반도체

2018.2

   khj2605@naver.com

 Studies on the collisionless heating in low pressure inductively coupled plasmas

김 동 환 (박사)

 

SK 하이닉스

2017.2

   realdh@hotmail.com

 Studies on high temporal resolution probe diagnostic methods for rapidly changing plasmas

이 재 원 (박사)

 

삼성전자 반도체

2017.2

   soulj12@gmail.com

 Studies on effect of remote plasma on an in-tandem main inductively coupled discharge

오 승 주 (박사)

 

삼성전자 반도체

2017.2

   kaisj@hanmail.net

  Studies on global model with multistep ionizations in helium plasma

김 현 준 (박사)

 

박사후 과정

2016.8

   kimhj1833@nate.com

 대면적 플라즈마 공정을 위한 강자성체를 이용한 유도결합 플라즈마의 방전 특성 연구 Studies on discharge characteristics of the ferrite inductive coupled plasma for large area plasma processing

김 진 용 (박사)

 

삼성전자 반도체

2016.2

   kimjy011@nate.com

 플라즈마 공정을 위한 이차원 플라즈마 분포 및 챔버 벽면에 증착된 유전막 두께 진단법  Studies on diagnostics of two dimensional plasma distribution and chamber wall-deposition deielectric film thickness for plasma process

김 유 신 (박사)

 

삼성전자 반도체

2016.2

   lovehan9@hotmail.com

 고조파 분석법을 응용한 고속 플라즈마 측정 및 음이온 선속 분포 측정 연구  Studies on fast plasma diagnostics and negative ion flux distribution measurement using harmonic analysis

김 영 철 (박사)

 

SK 하이닉스

2015.8

   saladin072@hanmail.net

 플라즈마 공정을 위한 2차원 플라즈마 진단 및 플라즈마 특성 분석 연구  A study on two-dimensional plasma diagnostics and analysis of discharge characteristics for plasma processing

김 영 도 (박사)

 

삼성전자 생산기술연구소

2014.8

   1984jedi@hanmail.net

 공정 개선을 위한 유도결합플라즈마 방전특성분석 및 진단법에 관한 연구  A study on plasma diasnostics and characteristics of inductive discharge for plasma processing

이 효 창 (박사)

 

KRISS 한국표준과학연구원

2012.8

   flower4507@hanyang.ac.kr

 RF 바이어스 유도결합 플라즈마 장치에서 플라즈마 변수와 전자 수송 가열에 관한 연구  Studies on plasma parameters and electron transport heating in RF biased inductively coupled plasma

오 세 진 (박사)

 

삼성전자 생산기술연구소

2012.8

   lifetide@hanyang.ac.kr

 플라즈마 진단을 위한 쉬스 임피던스 측정 및 특성 응용에 관한 연구 

이 영 광 (박사)

 

삼성전자 생산기술연구소

2012.2

   lifetide@hanyang.ac.kr

 유도 결합 아르곤 플라즈마의 광방출 분광법에 관한 연구 Study on optical emission spectroscopy in inductively coupled argon plasma 

방 진 영 (박사)

 

삼성전자 반도체

2011.8

tanziny@paran.com

 대면적 반도체 공정을 위한 플라즈마 발생원에 대한 연구 Studies on plasma source for large-area processing 

최 익 진 (박사)

 

세메스

2014.8

  gnsman@nate.com

  다양한 조건의 플라즈마에서 플라즈마 변수를 측정하기 위한 부유형 정전탐침법 연구  Studies on floating Langmuir probe methods to measure plasma parameters at various plasma conditions  

장 성 호 (박사)

 

삼성전자 생산기술연구소

2010.2

tosungho@hotmail.com

 부유 전위에서 고조파 전류분석을 통한 공정 플라즈마 진단 및 제어 연구 Studies on Real-time Plasma Diagnostics and Control by Using Harmonic Current Analysis at Floating Potential

Name/ Affiliation

Date

E-mail

Thesis

서 종 인 (석사)

 

SK 하이닉스

2020.2

   jongin904@naver.com

 Modified floating harmonic method by analyzing harmonic currents of a DC blocking capacitor

김 범 석 (석사)

 

P S K

2020.2

   zxzx0372@naver.com

 Measurements of electron energy probability function in 2 MHz and 13.56 MHz dual frequency capacitively coupled argon plasma

박 근 홍 (석사)

 

LG 디스플레이

2019.2

   pak926@Nate.com

 The effect of step ionizations on the high energy electron temperature in inductively coupled plasma

백 세 열 (석사)

 

삼 성 전 자

2019.2

   back130@naver.com

 저압 유도결합 플라즈마에서의 리모트 플라즈마 소스 특성 The characteristics of remote plasma source in low pressure inductively coupled plamsas

장 윤 민 (석사)

 

LG 전자 생산기술원

2016.8

   cynjack@naver.com

 랭뮤어프로브의 RF보상을 위한 외장수동필터 설계 Tunable external RF choke filter design for single Langmuir probe in RF discharges

구 슬 이 (석사)

 

SK 하이닉스

2016.2

   goooseul@naver.com

 Investing on electron bounce resonance heating at carious chamber height in a low pressure inductively coupled plasma  

황 철 민 (석사)

 

램리서치코리아

2016.2

 

  플라즈마를 이용한 높은 선택비로 하부층 손상이 없는 등방성 활성종 식각에 관한 연구  Study on damage-free isotropic radical etch with high selectivity using dry plasma High selective etch on Dummy poly removal  

황 혜 주 (석사)

 

코미코

2013.8

   gpwn1219@naver.com

 고조화 전류 분석법을 이용한 플라즈마 내의 전자 에너지 분포 추정 방법 연구 A study on estimation method of electron energy distribution functions using floating harmonic analysis

한 덕 선 (석사)

 

하이닉스 반도체

2013.2

   q1q1w2w2@naver.com

 안테나 접지 단 축전기를 사용한 유도결합 플라즈마 특성 및 응용에 관한 연구

이 희 진 (석사)

 

현대 자동차

2013.2

   jeelhj@naver.com

  무선전력전송을 이용한 플라즈마 밀도 분포 제어

김 현 준 (석사)

 

P S K

2012.2

   kimhj1833@hanyang.ac.kr

 전력공급방식에 따른 유도결합 플라즈마 특성 변화 연구

이 정 규 (석사)

 

유 진 테 크

2012.2

   chunrangljk@hanmail.net

 유도 결합 플라즈마에서 가스 종류에 따른 E-H 모드 전이 현상 연구

유 경 (석사)

 

하이닉스 반도체

2012.2

   sblueskyw@naver.com

 고조화 전류 분석법을 이용한 플라즈마 내의 전자 에너지 분포 추정 방법 연구 A study on estimation method of electron energy distribution functions using floating harmonic analysis

이 수 진 (석사)

 

세메스

 

2012.2

   sjlee0715@hotmail.com

 비대칭 전극 구조를 갖는 축전 결합 플라즈마에서의 방전 특성과 전력 소비 모드 전이에 관한 연구 Study on the discharge characteristics and power dissipation mode transition in asymmetric capacitively coupled plasma 

이 영 호 (석사)

 

하이닉스 반도체

2011.2

  withzealot@naver.com

 플라즈마 공정장비에서의 변압기를 이용한 플라즈마 전력변환 효율 개선 연구 A Study on the Efficient Power to the Plasmas Using a Transformer  

한 형 식 (석사)

 

삼성전자 LCD

2010.8

  chosator@naver.com

 랑뮤어 탐침 부유 전위에서의 쉬스 두께 측정 Measurement of Sheath Thickness at a Floating Pontential  

윤 인 창 (석사)

 

김포고등학교 교사

2010.8

  yic8717@paran.com

 고주파 RF 인가 전극이 저주파 유도결합 플라즈마에 미치는 효과  The effect of high frequency baised electrode on a low  freqency inductively coupled plasma  

구 주 환(석사)

 

LG 이노텍

2010.2

used_up@naver.com

 다양한 혼합 가스 유도결합 플라즈마에서 전자-이온 손실 당 에너지 손실 측정 Measurement of total energy losses per electron-ion lost in various mixed gas inductively coupled plasmas  

  김 아 람(석사)

 

DMS

(병역특례)

2010.2

rock1023@naver.com

 비 열평형 전자 분포 플라즈마에서의 부유 고조화 분석 연구 A study of the harmonic analysis method in non-Maxwellian plasmas  

김 건 호(석사)

 

LG전자 기술연구소

2009.8

kgunho@hanmail.net

 유도결합 플라즈마에서 쉬스 경계면과 챔버 중심의 밀도비에 대한 실험적 연구 Experimental investigation on Edge-to-Center density ratio in inductively coupled plasma  

황 광 태(석사)

 

삼성전자 반도체

2009.8

hkt99@nate.com

 자기 바이어스 현상을 이용한 전자온도 및 이온밀도 측정 Measurement of the eletron temperatures and ion densties using self-bias effect in argon inductively coupled plasma   

 황 기 호(석사)

 

삼성전기

2008.2

gen4@naver.com

 실시간 계측을 통한 공정 플라즈마 소스 진단 A Study on Process Plasma Source Diagnostics by Real-Time Measuring Technique  

 김 진 성(석사)

 

하이닉스 반도체

2008.2

kjs30513@naver.com

 유도 결합 플라즈마에서 두 안테나의 구조에 따른 특성 연구 A study of plasma characteristics depending on antenna shapes in Inductively Coupled Plasmas(ICPs)  

남 형 호(석사)

 

대명화학

2008.2

 

namhh78@naver.com

 고효율 및 회전대칭성 향상을 위한 유도결합 플라즈마 안테나 New Inductive coupled plasma antenna for improving the high efficiency and azmuthal symmetries   

이 경 효(석사)

 

하이닉스 반도체

2007.2

canopus24@paran.com

 대면적 공정을 위한 측면형 페라이트 유도 결합 플라즈마 특성 연구 Characterization of newly developed side-type ferrite inductively coupled plasma for large area processing  

박 남 석(석사)

   

LG 전자

2005.

pureumae@lge.com

 Double Half Turn 안테나에 의해 발생된 플라즈마 특성 연구 The plasma Chracteristic Study by a Double Half Turn Antenna  

김 원 기(석사)

   

 하이닉스 반도체

2005.