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서 범 준 (박사)
2026.08 졸업
freedom105@naver.com
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 Studies on High-Speed Noninvasive Plasma Diagnostics Using Floating Harmonic Probes
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양 희 재 (석사)
2026.08 졸업
azus8@naver.com
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Abnormal Behavior of Ultra-Low Electron Temperature Plasma Density in Inductively Coupled Plasma with a DC-biased grid
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이 현 (석사)
2026.08 졸업
94fragaria@naver.com
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Study on suppression of sputtering and enhancement of power transfer efficiency in inductively coupled plasma source
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윤 우 철 (석사)
2026.08 졸업
jqmqheo@naver.com
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Study on the Plasma and Source Characteristics in a Helical Resonator
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이 오 창 (석사)
2026.08 졸업
wideo85@naver.com
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Measurement of power transfer efficiency in an ICP system under near-parallel resonance considering internal shunt-branch loss
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장 이 랑 (박사)
2026.02 졸업
jyl0801@hanyang.ac.kr
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Control of axial electron temperature and radial electron density distributions using gradient magnetic fields in inductively coupled plasma driven at 27.12 and 60 MHz
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박 준 영 (박사)
SEMES
2026.02 졸업
jjjjy414@hanyang.ac.kr
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A study on damage-free SiO2 atomic layer etching using an ultra-low electron temperature plasma
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김 민 석 (박사)
SK 하이닉스
2026.02 졸업
decem1123@naver.com
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A Study on the Electron Kinetic Mechanisms and Selective Radical Generation and Control in Ultra- Low Electron Temperature Plasmas
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남 희 진 (석사)
SEMES
2025.08 졸업
heegenie2018@naver.com
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Effect of pulse duty ratio on electron temperature below a DC-biased grid in an RF-Pulsed inductively coupled plasma
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여 유 진 (석사)
2026.02 졸업
yeoyj0708@naver.com
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Studies on electron beam-assisted etching in inductively coupled plasma via DC biased grid
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문 호 준 (박사)
삼성전자 반도체연구소
2025.02 졸업
hj920721@naver.com
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Studies of high density plasma generation via electrode impedance control in capacitively coupled plasmas
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정 지 원 (박사)
삼성전자 반도체연구소
2025.02 졸업
meatball@hanyang.ac.kr
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Studies on electron beam-assisted etching in inductively coupled plasma via DC biased grid
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김 동 민 (석사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2025.02 졸업
koo05171@naver.com
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A study on electron temperature measurement using floating harmonic method in ultra low electron temperature plasma
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배 준 일 (석사)
SEMES
2025.02 졸업
wns8354@hanyang.ac.kr
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Electron beam energy distribution in a pulsed-inductively discharge with DC-biased grids
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최 정 은 (석사)
SEMES
2025.02 졸업
dmschl103@gmail.com
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The Effects of Pressure and Gas Mixture Ratios on Ultra Low Electron Temperature Plasma Containing Molecular Gases
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이 영 규 (석사)
SEMES
2025.02 졸업
lyg6813@gmail.com
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A study on the Validity of Power Transfer Efficiency Measurement Method in an Inductively Coupled Plasma
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한 승 철 (석사)
삼성전자 메모리 사업부
2025.02 졸업
onedayx2@naver.com
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Improvement of photoresist ashing efficiency in inductively coupled plasma using electron beam focusing with an arch- shaped grid
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김 가 애 (석사)
삼성전자 메모리 사업부
2025.02 졸업
gaae3233@naver.com
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A study on the generation and etching characteristics of ion beam and electron beam via a grid system in inductively coupled plasma
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어 현 동 (박사)
SEMES
2024.08 졸업
uhd86@hanyang.ac.kr
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A study of electric probes using the self-bias effect and asymmetric floating harmonic double probes for the diagnostic and monitoring of plasma processes
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하 우 (박사)
PSR Technology
2024.08 졸업
heyou715@gmail.com
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A study of the effect of inhomogeneous DC magnetic field in inductively coupled plasma for semiconductor processing
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이 호 원 (박사)
삼성전자 메모리 사업부
2024.02 졸업
leeho448@naver.com
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A Study on the effect of RF bias on plasma density and measurement of ion energy distribution in RF biased inductively coupled plasma
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손 진 웅 (석사)
원익 IPS
2024.02 졸업
sjinw0512@naver.com
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A method for measuring individual ion density in an Ar/He mixture inductively coupled plasma using two types of Langmuir probes
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안 세 훈 (석사)
SEMES
2024.02 졸업
ansee17@daum.net
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Plasma density distribution control in planar helical resonator source
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강 길 호 (석사)
삼성전자 반도체연구소
2024.02 졸업
ggh0505@naver.com
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Control of spatical plasma density distribution using parallel and series resonance in an inductively coupled plasma
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임 영 민 (박사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2023.02 졸업
dlaekfhd12@hanyang.ac.kr
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A study on the improvement of plasma generation of the capacitively ciupled plasmas and inductively coupled plasma by the parallel resonance
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홍 영 훈 (박사)
SEMES
2023.02 졸업
hyh4736@gmail.com
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Experimental investigation on the effect of collisional energy loss in inductively coupled plasma
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황 태 웅 (석사)
삼성전자 반도체연구소
2023.02 졸업
qaws4821@naver.com
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A study on the measurement of plasma distribution by double probes with asymmetric area
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김 관 용 (박사)
삼성전자 메모리사업부
2022.08 졸업
kky5958@naver.com
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A study on a hybrid plasma source combined
of inductively coupled and capacitively coupled
plasma sources
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전 상 범 (박사)
SEMES
2022.08 졸업
jkjk1203@hanmail.net
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A study on rf circuit graphical analysis for impedance matching and electrical probes
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김 태 우 (박사)
삼성전자 설비기술연구소
2022.02 졸업
worldcorn2002@nate.com
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A study on plasma density profile control using virtual ground position and magnetic resonance wireless power transfer in inductively coupled plasma
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이 무 영 (박사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2022.02 졸업
dlandud06@naver.com
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Studies on electrical diagnostic methods for measurement of plasma parameters and dielectric film thickness in deposition plasmas
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유 경 환 (석사)
SEMES
2022.02 졸업
meo94@naver.com
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Ashing rate prediction model through real-time plasma measurement
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이 무 현 (석사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2022.02 졸업
moohyun619@gmail.com
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A Study on the measurement of individual ion density using floating harmonics probe in two ion species plasmas
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이 준 호 (석사)
SEMES
2022.02 졸업
zeizonejunho@naver.com
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Improvement of power transfer efficiency using a parallel resonance in a 60 MHz capacitively plasma
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최 재 훈 (석사)
원익 IPS
2022.02 졸업
hoone14@naver.com
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A Study on the Wireless Asymmetric Langmuir Probe for Plasma Measurement
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이 현 중 (석사)
ASML korea
2022.02 졸업
guswndwls@gmail.com
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RF distortion effect by the inductive load on the floating harmonic method
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장 애 선 (박사)
SEMES
2021.08 졸업
lemonzzhang@hotmail.com
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Studies on the characteristics of oxygen plasma by measuring negative ion density and floating potential distributions
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황 재 구 (석사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2021.02 졸업
jaegu430@naver.com
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RF distortion effect by the inductive load on the floating harmonic method
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이 나 연 (석사)
SEMES
2021.2 졸업
tkfkdckwrl1@naver.com
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Correlation of electrical characteristics and plasma parameters measured at RF-biased electrodes
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김 경 현 (박사)
삼성전자 생산기술연구소
2020.8 졸업
megatonp@dreamwiz.com
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Analysis of inductively coupled plasmas through measuring electron energy distribution functions for gas decompositio
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김 주 호 (박사)
박사 후 과정
2020.2 졸업
electrickjh@gamil.com
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A study on high efficiency plasma generation in inductively coupled plasmas with a resonant antenna coil
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문 준 현 (박사)
삼성전자 반도체연구소
2020.2 졸업
cmdoor@hanyang.ac.kr
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Studies on E - H mode transition and its hysteresis with coil current reduction in inductively coupled plasmas
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서 종 인 (석사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2020.2 졸업
jongin904@naver.com
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Modified floating harmonic method by analyzing harmonic currents of a DC blocking capacitor
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김 범 석 (석사)
P S K
2020.2 졸업
zxzx0372@naver.com
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Measurements of electron energy probability function in 2 MHz and 13.56 MHz dual frequency capacitively coupled argon plasma
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박 지 환 (박사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2019.2 졸업
starc86@gmail.com
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Frequency-domain nonlinear acoustic echo reduction techniques using single-channel and multi-channel microphones
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박 일 서 (박사)
삼성전자 메모리사업부
2019.2 졸업
ilseo876@naver.com
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Analysis of characteristics of inductively coupled plasmas using two-dimensional simultaneous plasma diagnostics
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이 래 일 (박사)
Tokyo Electron Korea
2019.2 졸업
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A study of multi-layer deposition process control using RF/Plasma monitoring technologies for 3D device fabrication process
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박 근 홍 (석사)
LG 디스플레이
2019.2 졸업
pak926@nate.com
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The effect of step ionizations on the high energy electron temperature in inductively coupled plasma
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백 세 열 (석사)
삼성전자 Foundry사업부
2019.2 졸업
back130@naver.com
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The characteristics of remote plasma source in low pressure inductively coupled plamsas
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강 현 주 (박사)
삼성전자 메모리사업부
2018.2 졸업
khj2605@naver.com
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Studies on the collisionless heating in low pressure inductively coupled plasmas
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김 동 환 (박사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2017.2 졸업
realdh@hotmail.com
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Studies on high temporal resolution probe diagnostic methods for rapidly changing plasmas
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이 재 원 (박사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2017.2 졸업
nufrancis@hanyang.ac.kr
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Studies on effect of remote plasma on an in-tandem main inductively coupled discharge
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오 승 주 (박사)
삼성전자 메모리사업부
2017.2 졸업
kaisj@hanmail.net
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Studies on global model with multistep ionizations in helium plasma
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김 현 준 (박사)
Applied Materials (본사)
2016.8 졸업
kimhj1833@nate.com
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Studies on discharge characteristics of the ferrite inductive coupled plasma for large area plasma processing
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장 윤 민 (석사)
LG전자 생산기술원
2016.8 졸업
cynjack@naver.com
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Tunable external RF choke filter design for single Langmuir probe in RF discharges
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김 진 용 (박사)
삼성전자 메모리사업부
2016.2 졸업
kimjy011@nate.com
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Studies on diagnostics of two dimensional plasma distribution and chamber wall-deposition deielectric film thickness for plasma process
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김 유 신 (박사)
삼성전자 메모리사업부
2016.2 졸업
lovehan9@hotmail.com
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Studies on fast plasma diagnostics and negative ion flux distribution measurement using harmonic analysis
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구 슬 이 (석사)
SK 하이닉스
2016.2 졸업
goooseul@naver.com
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Investing on electron bounce resonance heating at carious chamber height in a low pressure inductively coupled plasma
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황 철 민 (석사)
Applied Materials Korea
2016.2 졸업
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Study on damage-free isotropic radical etch with high selectivity using dry plasma High selective etch on Dummy poly removal
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김 영 철 (박사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2015.8 졸업
saladin072@hanmail.net
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A study on two-dimensional plasma diagnostics and analysis of discharge characteristics for plasma processing
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김 영 도 (박사)
삼성전자 생산기술연구소
2014.8 졸업
1984jedi@hanmail.net
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A study on plasma diasnostics and characteristics of inductive discharge for plasma processing
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최 익 진 (박사)
원익IPS
2014.8 졸업
gnsman@nate.com
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Studies on floating Langmuir probe methods to measure plasma parameters at various plasma conditions
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황 혜 주 (석사)
원익IPS
2013.8 졸업
gpwn1219@naver.com
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A study on estimation method of electron energy distribution functions using floating harmonic analysis
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한 덕 선 (석사)
국가핵융합연구소 플라즈마기술연구센터
2013.2 졸업
q1q1w2w2@naver.com
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안테나 접지 단 축전기를 사용한 유도결합 플라즈마 특성 및 응용에 관한 연구
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이 희 진 (석사)
현대자동차
2013.2 졸업
jeelhj@naver.com
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무선전력전송을 이용한 플라즈마 밀도 분포 제어
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이 효 창 (박사)
KRISS 한국표준과학연구원
2012.8 졸업
flower4507@hanyang.ac.kr
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Studies on plasma parameters and electron transport heating in RF biased inductively coupled plasma
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오 세 진 (박사)
삼성전자 생산기술연구소
2012.8 졸업
lifetide@hanyang.ac.kr
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플라즈마 진단을 위한 쉬스 임피던스 측정 및 특성 응용에 관한 연구
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이 영 광 (박사)
삼성전자 생산기술연구소
2012.2 졸업
lifetide@hanyang.ac.kr
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Study on optical emission spectroscopy in inductively coupled argon plasma
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김 현 준 (석사)
P S K
2012.2 졸업
kimhj1833@hanyang.ac.kr
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전력공급방식에 따른 유도결합 플라즈마 특성 변화 연구
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이 정 규 (석사)
ULVAC
2012.2 졸업
chunrangljk@hanmail.net
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유도 결합 플라즈마에서 가스 종류에 따른 E-H 모드 전이 현상 연구
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유 경 (석사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2012.2 졸업
sblueskyw@naver.com
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A study on estimation method of electron energy distribution functions using floating harmonic analysis
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이 수 진 (석사)
SEMES
2012.2 졸업
sjlee0715@hotmail.com
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Study on the discharge characteristics and power dissipation mode transition in asymmetric capacitively coupled plasma
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방 진 영 (박사)
삼성전자 메모리사업부
2011.8 졸업
tanziny@paran.com
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Studies on plasma source for large-area processing
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이 영 호 (석사)
한국전력
2011.2 졸업
withzealot@naver.com
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A study on the efficient power to the plasmas using a transformer
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한 형 식 (석사)
삼성디스플레이
2010.8 졸업
chosator@naver.com
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Measurement of sheath thickness at a floating pontential
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윤 인 창 (석사)
김포 고등학교 교사
2010.8 졸업
yic8717@paran.com
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The effect of high frequency baised electrode on a low freqency inductively coupled plasmar
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장 성 호 (박사)
삼성전자 생산기술연구소
2010.2 졸업
tosungho@hotmail.com
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Studies on Real-time Plasma Diagnostics and Control by Using Harmonic Current Analysis at Floating Potential
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구 주 환 (석사)
LG 이노텍
2010.2 졸업
used_up@naver.com
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Measurement of total energy losses per electron-ion lost in various mixed gas inductively coupled plasmas
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김 아 람 (석사)
PSK
2010.2 졸업
rock1023@naver.com
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A study of the harmonic analysis method in non-Maxwellian plasmas
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김 건 호 (석사)
LG전자 기술연구소
2009.8 졸업
kgunho@hanmail.net
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Experimental investigation on Edge-to-Center density ratio in inductively coupled plasma
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황 광 태 (석사)
삼성전자 반도체연구소
2009.8 졸업
hkt@nate.com
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Measurement of the eletron temperatures and ion densties using self-bias effect in argon inductively coupled plasma
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황 기 호 (석사)
삼성전자 메모리사업부
2008.2 졸업
gen4@naver.com
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A study on process plasma source diagnostics by real-time measuring technique
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김 진 성 (석사)
SK 하이닉스 미래기술연구원
2008.2 졸업
kjs30513@naver.com
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A study of plasma characteristics depending on antenna shapes in Inductively Coupled Plasmas(ICPs)
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남 형 호 (석사)
대명화학
2008.2 졸업
namhh78@naver.com
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New Inductive coupled plasma antenna for improving the high efficiency and azmuthal symmetries
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조 성 원 (박사)
삼성전자
2021.8 졸업
sungwon.cho@jcetglobal.com
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Study on discharge characteristics and uniformity control for Ferrite materials and dual structure antenna inductively coupled plasma
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이 경 효 (석사)
SK 하이닉스
2007.2 졸업
canopus24@paran.com
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Characterization of newly developed side-type ferrite inductively coupled plasma for large area processing
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박 남 석 (석사)
LG 전자
2005 졸업
pureumae@lge.com
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The plasma chracteristic study by a double half turn antenna
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김 원 기 (석사)
SK 하이닉스
2005 졸업
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