한양대학교 플라즈마 전자공학 연구실

황 재 구 (석사) SK 하이닉스 미래기술연구원 2021.02 졸업 jaegu430@naver.com	RF distortion effect by the inductive load on the floating harmonic method	이 나 연 (석사) SEMES 2021.2 졸업 tkfkdckwrl1@naver.com	Correlation of electrical characteristics and plasma parameters measured at RF-biased electrodes
김 경 현 (박사) 삼성전자 생산기술연구소 2020.8 졸업 megatonp@dreamwiz.com	Analysis of inductively coupled plasmas through measuring electron energy distribution functions for gas decompositio	김 주 호 (박사) 박사 후 과정 2020.2 졸업 electrickjh@gamil.com	A study on high efficiency plasma generation in inductively coupled plasmas with a resonant antenna coil
문 준 현 (박사) 삼성전자 반도체연구소 2020.2 졸업 cmdoor@hanyang.ac.kr	Studies on E - H mode transition and its hysteresis with coil current reduction in inductively coupled plasmas	서 종 인 (석사) SK 하이닉스 미래기술연구원 2020.2 졸업 jongin904@naver.com	Modified floating harmonic method by analyzing harmonic currents of a DC blocking capacitor
김 범 석 (석사) P S K 2020.2 졸업 zxzx0372@naver.com	Measurements of electron energy probability function in 2 MHz and 13.56 MHz dual frequency capacitively coupled argon plasma	박 지 환 (박사) SK 하이닉스 미래기술연구원 2019.2 졸업 starc86@gmail.com	Frequency-domain nonlinear acoustic echo reduction techniques using single-channel and multi-channel microphones
박 일 서 (박사) 삼성전자 메모리사업부 2019.2 졸업 ilseo876@naver.com	Analysis of characteristics of inductively coupled plasmas using two-dimensional simultaneous plasma diagnostics	이 래 일 (박사) Tokyo Electron Korea 2019.2 졸업	A study of multi-layer deposition process control using RF/Plasma monitoring technologies for 3D device fabrication process
박 근 홍 (석사) LG 디스플레이 2019.2 졸업 pak926@nate.com	The effect of step ionizations on the high energy electron temperature in inductively coupled plasma	백 세 열 (석사) 삼성전자 Foundry사업부 2019.2 졸업 back130@naver.com	The characteristics of remote plasma source in low pressure inductively coupled plamsas
강 현 주 (박사) 삼성전자 메모리사업부 2018.2 졸업 khj2605@naver.com	Studies on the collisionless heating in low pressure inductively coupled plasmas	김 동 환 (박사) SK 하이닉스 미래기술연구원 2017.2 졸업 realdh@hotmail.com	Studies on high temporal resolution probe diagnostic methods for rapidly changing plasmas
이 재 원 (박사) 박사 후 과정 2017.2 졸업 nufrancis@hanyang.ac.kr	Studies on effect of remote plasma on an in-tandem main inductively coupled discharge	오 승 주 (박사) 삼성전자 메모리사업부 2017.2 졸업 kaisj@hanmail.net	Studies on global model with multistep ionizations in helium plasma
김 현 준 (박사) Applied Materials (본사) 2016.8 졸업 kimhj1833@nate.com	Studies on discharge characteristics of the ferrite inductive coupled plasma for large area plasma processing	장 윤 민 (석사) LG전자 생산기술원 2016.8 졸업 cynjack@naver.com	Tunable external RF choke filter design for single Langmuir probe in RF discharges
김 진 용 (박사) 삼성전자 메모리사업부 2016.2 졸업 kimjy011@nate.com	Studies on diagnostics of two dimensional plasma distribution and chamber wall-deposition deielectric film thickness for plasma process	김 유 신 (박사) 삼성전자 메모리사업부 2016.2 졸업 lovehan9@hotmail.com	Studies on fast plasma diagnostics and negative ion flux distribution measurement using harmonic analysis
구 슬 이 (석사) SK 하이닉스 2016.2 졸업 goooseul@naver.com	Investing on electron bounce resonance heating at carious chamber height in a low pressure inductively coupled plasma	황 철 민 (석사) Applied Materials Korea 2016.2 졸업	Study on damage-free isotropic radical etch with high selectivity using dry plasma High selective etch on Dummy poly removal
김 영 철 (박사) SK 하이닉스 미래기술연구원 2015.8 졸업 saladin072@hanmail.net	A study on two-dimensional plasma diagnostics and analysis of discharge characteristics for plasma processing	김 영 도 (박사) 삼성전자 생산기술연구소 2014.8 졸업 1984jedi@hanmail.net	A study on plasma diasnostics and characteristics of inductive discharge for plasma processing
최 익 진 (박사) 원익IPS 2014.8 졸업 gnsman@nate.com	Studies on floating Langmuir probe methods to measure plasma parameters at various plasma conditions	황 혜 주 (석사) 원익IPS 2013.8 졸업 gpwn1219@naver.com	A study on estimation method of electron energy distribution functions using floating harmonic analysis
한 덕 선 (석사) 국가핵융합연구소 플라즈마기술연구센터 2013.2 졸업 q1q1w2w2@naver.com	안테나 접지 단 축전기를 사용한 유도결합 플라즈마 특성 및 응용에 관한 연구	이 희 진 (석사) 현대자동차 2013.2 졸업 jeelhj@naver.com	무선전력전송을 이용한 플라즈마 밀도 분포 제어
이 효 창 (박사) KRISS 한국표준과학연구원 2012.8 졸업 flower4507@hanyang.ac.kr	Studies on plasma parameters and electron transport heating in RF biased inductively coupled plasma	오 세 진 (박사) 삼성전자 생산기술연구소 2012.8 졸업 lifetide@hanyang.ac.kr	플라즈마 진단을 위한 쉬스 임피던스 측정 및 특성 응용에 관한 연구
이 영 광 (박사) 삼성전자 생산기술연구소 2012.2 졸업 lifetide@hanyang.ac.kr	Study on optical emission spectroscopy in inductively coupled argon plasma	김 현 준 (석사) P S K 2012.2 졸업 kimhj1833@hanyang.ac.kr	전력공급방식에 따른 유도결합 플라즈마 특성 변화 연구
이 정 규 (석사) ULVAC 2012.2 졸업 chunrangljk@hanmail.net	유도 결합 플라즈마에서 가스 종류에 따른 E-H 모드 전이 현상 연구	유 경 (석사) SK 하이닉스 미래기술연구원 2012.2 졸업 sblueskyw@naver.com	A study on estimation method of electron energy distribution functions using floating harmonic analysis
이 수 진 (석사) SEMES 2012.2 졸업 sjlee0715@hotmail.com	Study on the discharge characteristics and power dissipation mode transition in asymmetric capacitively coupled plasma	방 진 영 (박사) 삼성전자 메모리사업부 2011.8 졸업 tanziny@paran.com	Studies on plasma source for large-area processing
이 영 호 (석사) 한국전력 2011.2 졸업 withzealot@naver.com	A study on the efficient power to the plasmas using a transformer	한 형 식 (석사) 삼성디스플레이 2010.8 졸업 chosator@naver.com	Measurement of sheath thickness at a floating pontential
윤 인 창 (석사) 김포 고등학교 교사 2010.8 졸업 yic8717@paran.com	The effect of high frequency baised electrode on a low freqency inductively coupled plasmar	장 성 호 (박사) 삼성전자 생산기술연구소 2010.2 졸업 tosungho@hotmail.com	Studies on Real-time Plasma Diagnostics and Control by Using Harmonic Current Analysis at Floating Potential
구 주 환 (석사) LG 이노텍 2010.2 졸업 used_up@naver.com	Measurement of total energy losses per electron-ion lost in various mixed gas inductively coupled plasmas	김 아 람 (석사) PSK 2010.2 졸업 rock1023@naver.com	A study of the harmonic analysis method in non-Maxwellian plasmas
김 건 호 (석사) LG전자 기술연구소 2009.8 졸업 kgunho@hanmail.net	Experimental investigation on Edge-to-Center density ratio in inductively coupled plasma	황 광 태 (석사) 삼성전자 반도체연구소 2009.8 졸업 hkt@nate.com	Measurement of the eletron temperatures and ion densties using self-bias effect in argon inductively coupled plasma
황 기 호 (석사) 삼성전자 메모리사업부 2008.2 졸업 gen4@naver.com	A study on process plasma source diagnostics by real-time measuring technique	김 진 성 (석사) SK 하이닉스 미래기술연구원 2008.2 졸업 kjs30513@naver.com	A study of plasma characteristics depending on antenna shapes in Inductively Coupled Plasmas(ICPs)
남 형 호 (석사) 대명화학 2008.2 졸업 namhh78@naver.com	New Inductive coupled plasma antenna for improving the high efficiency and azmuthal symmetries	조 성 원 (석사) Stats ChipPAC Korea 2007.8 졸업 sungwon.cho@jcetglobal.com	The digital matching network for a ferromagnetic inductively coupled plasma driven at 400kHz
이 경 (석사) SK 하이닉스 2007.2 졸업 canopus24@paran.com	Characterization of newly developed side-type ferrite inductively coupled plasma for large area processing	박 남 석 (석사) LG 전자 2005 졸업 pureumae@lge.com	The plasma chracteristic study by a double half turn antenna
김 원 기 (석사) SK 하이닉스 2005 졸업	Comparison study of electrical probes and microwave probes in an inductively coupled plasma