이 호 원 (박사)


삼성전자 메모리 사업부
2024.02 졸업
leeho448@naver.com

 A Study on the effect of RF bias on plasma density and measurement of ion energy distribution in RF biased inductively coupled plasma

손 진 웅 (석사)


원익 IPS
2024.02 졸업
sjinw0512@naver.com

 A method for measuring individual ion density in an Ar/He mixture inductively coupled plasma using two types of Langmuir probes

안 세 훈 (석사)


SEMES
2024.02 졸업
ansee17@daum.net

 Plasma density distribution control in planar helical resonator source

강 길 호 (석사)


삼성전자 반도체연구소
2024.02 졸업
ggh0505@naver.com

 Control of spatical plasma density distribution using parallel and series resonance in an inductively coupled plasma

임 영 민 (박사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2023.02 졸업
dlaekfhd12@hanyang.ac.kr

 A study on the improvement of plasma generation of the capacitively ciupled plasmas and inductively coupled plasma by the parallel resonance

홍 영 훈 (박사)


SEMES
2023.02 졸업
hyh4736@gmail.com

 Experimental investigation on the effect of collisional energy loss in inductively coupled plasma

황 태 웅 (석사)


삼성전자 반도체연구소
2023.02 졸업
qaws4821@naver.com

 A study on the measurement of plasma distribution by double probes with asymmetric area

김 관 용 (박사)


삼성전자 메모리사업부
2022.08 졸업
kky5958@naver.com

 A study on a hybrid plasma source combined of inductively coupled and capacitively coupled plasma sources

전 상 범 (박사)


SEMES
2022.08 졸업
jkjk1203@hanmail.net

 A study on rf circuit graphical analysis for impedance matching and electrical probes

김 태 우 (박사)


삼성전자 설비기술연구소
2022.02 졸업
worldcorn2002@nate.com

 A study on plasma density profile control using virtual ground position and magnetic resonance wireless power transfer in inductively coupled plasma

이 무 영 (박사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2022.02 졸업
dlandud06@naver.com

 Studies on electrical diagnostic methods for measurement of plasma parameters and dielectric film thickness in deposition plasmas

유 경 환 (석사)


SEMES
2022.02 졸업
meo94@naver.com

 Ashing rate prediction model through real-time plasma measurement

이 무 현 (석사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2022.02 졸업
moohyun619@gmail.com

 A Study on the measurement of individual ion density using floating harmonics probe in two ion species plasmas

이 준 호 (석사)


SEMES
2022.02 졸업
zeizonejunho@naver.com

 Improvement of power transfer efficiency using a parallel resonance in a 60 MHz capacitively plasma

최 재 훈 (석사)


원익 IPS
2022.02 졸업
hoone14@naver.com

 A Study on the Wireless Asymmetric Langmuir Probe for Plasma Measurement

이 현 중 (석사)


ASML korea
2022.02 졸업
guswndwls@gmail.com

 RF distortion effect by the inductive load on the floating harmonic method

장 애 선 (박사)


SEMES
2021.08 졸업
lemonzzhang@hotmail.com

 Studies on the characteristics of oxygen plasma by measuring negative ion density and floating potential distributions

황 재 구 (석사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2021.02 졸업
jaegu430@naver.com

 RF distortion effect by the inductive load on the floating harmonic method

이 나 연 (석사)


SEMES
2021.2 졸업
tkfkdckwrl1@naver.com

 Correlation of electrical characteristics and plasma parameters measured at RF-biased electrodes

김 경 현 (박사)


삼성전자 생산기술연구소
2020.8 졸업
megatonp@dreamwiz.com

 Analysis of inductively coupled plasmas through measuring electron energy distribution functions for gas decompositio

김 주 호 (박사)


박사 후 과정
2020.2 졸업
electrickjh@gamil.com

 A study on high efficiency plasma generation in inductively coupled plasmas with a resonant antenna coil

문 준 현 (박사)


삼성전자 반도체연구소
2020.2 졸업
cmdoor@hanyang.ac.kr

 Studies on E - H mode transition and its hysteresis with coil current reduction in inductively coupled plasmas

서 종 인 (석사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2020.2 졸업
jongin904@naver.com

 Modified floating harmonic method by analyzing harmonic currents of a DC blocking capacitor

김 범 석 (석사)


P S K
2020.2 졸업
zxzx0372@naver.com

 Measurements of electron energy probability function in 2 MHz and 13.56 MHz dual frequency capacitively coupled argon plasma

박 지 환 (박사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2019.2 졸업
starc86@gmail.com

 Frequency-domain nonlinear acoustic echo reduction techniques using single-channel and multi-channel microphones

박 일 서 (박사)


삼성전자 메모리사업부
2019.2 졸업
ilseo876@naver.com

 Analysis of characteristics of inductively coupled plasmas using two-dimensional simultaneous plasma diagnostics

이 래 일 (박사)


Tokyo Electron Korea
2019.2 졸업

 A study of multi-layer deposition process control using RF/Plasma monitoring technologies for 3D device fabrication process

박 근 홍 (석사)


LG 디스플레이
2019.2 졸업
pak926@nate.com

 The effect of step ionizations on the high energy electron temperature in inductively coupled plasma

백 세 열 (석사)


삼성전자 Foundry사업부
2019.2 졸업
back130@naver.com

 The characteristics of remote plasma source in low pressure inductively coupled plamsas

강 현 주 (박사)


삼성전자 메모리사업부
2018.2 졸업
khj2605@naver.com

 Studies on the collisionless heating in low pressure inductively coupled plasmas

김 동 환 (박사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2017.2 졸업
realdh@hotmail.com

 Studies on high temporal resolution probe diagnostic methods for rapidly changing plasmas

이 재 원 (박사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2017.2 졸업
nufrancis@hanyang.ac.kr

 Studies on effect of remote plasma on an in-tandem main inductively coupled discharge

오 승 주 (박사)


삼성전자 메모리사업부
2017.2 졸업
kaisj@hanmail.net

 Studies on global model with multistep ionizations in helium plasma

김 현 준 (박사)


Applied Materials (본사)
2016.8 졸업
kimhj1833@nate.com

 Studies on discharge characteristics of the ferrite inductive coupled plasma for large area plasma processing

장 윤 민 (석사)


LG전자 생산기술원
2016.8 졸업
cynjack@naver.com

 Tunable external RF choke filter design for single Langmuir probe in RF discharges

김 진 용 (박사)


삼성전자 메모리사업부
2016.2 졸업
kimjy011@nate.com

 Studies on diagnostics of two dimensional plasma distribution and chamber wall-deposition deielectric film thickness for plasma process

김 유 신 (박사)


삼성전자 메모리사업부
2016.2 졸업
lovehan9@hotmail.com

  Studies on fast plasma diagnostics and negative ion flux distribution measurement using harmonic analysis

구 슬 이 (석사)


SK 하이닉스
2016.2 졸업
goooseul@naver.com

 Investing on electron bounce resonance heating at carious chamber height in a low pressure inductively coupled plasma

황 철 민 (석사)


Applied Materials Korea
2016.2 졸업

 Study on damage-free isotropic radical etch with high selectivity using dry plasma High selective etch on Dummy poly removal

김 영 철 (박사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2015.8 졸업
saladin072@hanmail.net

 A study on two-dimensional plasma diagnostics and analysis of discharge characteristics for plasma processing

김 영 도 (박사)


삼성전자 생산기술연구소
2014.8 졸업
1984jedi@hanmail.net

 A study on plasma diasnostics and characteristics of inductive discharge for plasma processing

최 익 진 (박사)


원익IPS
2014.8 졸업
gnsman@nate.com

 Studies on floating Langmuir probe methods to measure plasma parameters at various plasma conditions

황 혜 주 (석사)


원익IPS
2013.8 졸업
gpwn1219@naver.com

 A study on estimation method of electron energy distribution functions using floating harmonic analysis

한 덕 선 (석사)


국가핵융합연구소 플라즈마기술연구센터
2013.2 졸업
q1q1w2w2@naver.com

 안테나 접지 단 축전기를 사용한 유도결합 플라즈마 특성 및 응용에 관한 연구

이 희 진 (석사)


현대자동차
2013.2 졸업
jeelhj@naver.com

 무선전력전송을 이용한 플라즈마 밀도 분포 제어

이 효 창 (박사)


KRISS 한국표준과학연구원
2012.8 졸업
flower4507@hanyang.ac.kr

 Studies on plasma parameters and electron transport heating in RF biased inductively coupled plasma

오 세 진 (박사)


삼성전자 생산기술연구소
2012.8 졸업
lifetide@hanyang.ac.kr

 플라즈마 진단을 위한 쉬스 임피던스 측정 및 특성 응용에 관한 연구

이 영 광 (박사)


삼성전자 생산기술연구소
2012.2 졸업
lifetide@hanyang.ac.kr

 Study on optical emission spectroscopy in inductively coupled argon plasma

김 현 준 (석사)


P S K
2012.2 졸업
kimhj1833@hanyang.ac.kr

 전력공급방식에 따른 유도결합 플라즈마 특성 변화 연구

이 정 규 (석사)


ULVAC
2012.2 졸업
chunrangljk@hanmail.net

 유도 결합 플라즈마에서 가스 종류에 따른 E-H 모드 전이 현상 연구

유 경 (석사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2012.2 졸업
sblueskyw@naver.com

 A study on estimation method of electron energy distribution functions using floating harmonic analysis

이 수 진 (석사)


SEMES
2012.2 졸업
sjlee0715@hotmail.com

 Study on the discharge characteristics and power dissipation mode transition in asymmetric capacitively coupled plasma

방 진 영 (박사)


삼성전자 메모리사업부
2011.8 졸업
tanziny@paran.com

 Studies on plasma source for large-area processing

이 영 호 (석사)


한국전력
2011.2 졸업
withzealot@naver.com

 A study on the efficient power to the plasmas using a transformer

한 형 식 (석사)


삼성디스플레이
2010.8 졸업
chosator@naver.com

  Measurement of sheath thickness at a floating pontential

윤 인 창 (석사)


김포 고등학교 교사
2010.8 졸업
yic8717@paran.com

  The effect of high frequency baised electrode on a low freqency inductively coupled plasmar

장 성 호 (박사)


삼성전자 생산기술연구소
2010.2 졸업
tosungho@hotmail.com

 Studies on Real-time Plasma Diagnostics and Control by Using Harmonic Current Analysis at Floating Potential

구 주 환 (석사)


LG 이노텍
2010.2 졸업
used_up@naver.com

  Measurement of total energy losses per electron-ion lost in various mixed gas inductively coupled plasmas

김 아 람 (석사)


PSK
2010.2 졸업
rock1023@naver.com

 A study of the harmonic analysis method in non-Maxwellian plasmas

김 건 호 (석사)


LG전자 기술연구소
2009.8 졸업
kgunho@hanmail.net

  Experimental investigation on Edge-to-Center density ratio in inductively coupled plasma

황 광 태 (석사)


삼성전자 반도체연구소
2009.8 졸업
hkt@nate.com

 Measurement of the eletron temperatures and ion densties using self-bias effect in argon inductively coupled plasma

황 기 호 (석사)


삼성전자 메모리사업부
2008.2 졸업
gen4@naver.com

  A study on process plasma source diagnostics by real-time measuring technique

김 진 성 (석사)


SK 하이닉스 미래기술연구원
2008.2 졸업
kjs30513@naver.com

  A study of plasma characteristics depending on antenna shapes in Inductively Coupled Plasmas(ICPs)

남 형 호 (석사)


대명화학
2008.2 졸업
namhh78@naver.com

  New Inductive coupled plasma antenna for improving the high efficiency and azmuthal symmetries

조 성 원 (박사)


삼성전자
2021.8 졸업
sungwon.cho@jcetglobal.com

 Study on discharge characteristics and uniformity control for Ferrite materials and dual structure antenna inductively coupled plasma

이 경 효 (석사)


SK 하이닉스
2007.2 졸업
canopus24@paran.com

  Characterization of newly developed side-type ferrite inductively coupled plasma for large area processing

박 남 석 (석사)


LG 전자
2005 졸업
pureumae@lge.com

 The plasma chracteristic study by a double half turn antenna

김 원 기 (석사)


SK 하이닉스
2005 졸업

  Comparison study of electrical probes and microwave probes in an inductively coupled plasma